「紀念紅軍長徵入川90周年紅色非遺特展」在杭州啟幕
2026-02-19 12:50 6,493次浏览央廣網北京8月11日消息(記者馮儀)日前，工業和信息化部、國家發展改革委、教育部、國家衛生健康委、國務院國資委、中國科學院、國家藥監局發布《關於推動腦機接口產業創新發展的實施意見》(以下簡稱《意見》)。 《意見》提出，到2027年，腦機接口關鍵技術取得突破，初步建立先進的技術體系、產業體系和標準體系。電極、晶片和整機產品性能達到國際先進水平，腦機接口產品在工業製造、醫療健康、生活消費等加快應用。產業規模不斷壯大，打造2至3個產業發展集聚區，開拓一批新場景、新模式、新業態。 到2030年，腦機接口產業創新能力顯著提升，形成安全可靠的產業體系，培育2至3家有全球影響力的領軍企業和一批專精特新中小企業，構建具有國際競爭力的產業生態，綜合實力邁入世界前列。 此外，還要優化人才培養。加強相關學科專業人才培養，布局建設未來技術學院、現代化產業學院等特色學院。鼓勵企業與高校、科研院所、醫療機構等合作，共同培養跨學科的複合型工程型人才，增強高水平人才供給。建設卓越工程師實踐基地，加強職業教育和技術培訓，大力培育產業應用型技能型人才。加強海外人才交流引進，健全人才服務體系，確保人才引得來、留得住。
8月5日電 據「大同華嚴寺景區」微信公眾號消息，8月5日，大同市遼金文化藝術博物院發布關於華嚴寺薄伽教藏殿西牆外立面浮塵痕跡的情況說明。 近日，有網友反映大同華嚴寺薄伽教藏殿西牆外立面存在疑似刻字痕跡，引發社會關注。該院高度重視，立即組織專業人員現場核查，現將情況說明如下： 經實地勘察與鑑定，網傳牆體痕跡實為遊客用手指在浮塵上塗畫，並非刻劃。薄伽教藏殿作為遼代木構珍品，其牆體因古建築特有的收分結構，易在立面自然積存浮塵。此次痕跡僅為在表層浮塵塗抹後形成的短暫印記，未對殿外牆體的塗料層造成任何損傷，無需幹預修復。 感謝廣大網友和媒體對華嚴寺的關心監督，這體現了全社會文物保護意識的提升。我們再次呼籲：文物安全需全民共護，參觀時請勿觸碰建築本體及壁畫彩塑，自覺遠離護欄限定區域，讓千年遺產永續傳承。 圖片來源：「大同華嚴寺景區」微信公眾號截圖
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